Титанијумске мете за прскањесу кључни материјали у технологији физичког таложења паром (ПВД), посебно у процесу прскања премаза. Направљени су од сировина титанијума и широко се користе у високотехнолошким-индустријама као што су електроника, информационе технологије, декоративна поља и производња аутомобилског стакла. У овим применама, титанијумске мете се посебно примењују у премазивању у интегрисаним колима, површинском премазивању плоча са равним екраном или као слојеви премаза за декоративно и функционално стакло.
Основни захтеви за перформансе мета за распршивање титанијума
Перформансе титанијумских циљних материјала директно одређују квалитет депонованих филмова и перформансе финалних уређаја.
Чистоћа: Чистоћа је један од најкритичнијих индикатора перформанси циљаног материјала и значајно утиче на перформансе филмова. Захтеви за чистоћу се веома разликују у зависности од различитих примена. Тренд у производњи чипова је да су силиконске плочице све веће, а линије кола све тање. Величина силицијумских плочица је надограђена на 12 инча, а ширина ожичења се постепено смањивала на 0,25 μм, 0,18 μм и 0,13 μм. Због тога су захтеви за чистоћом за основни материјал, титанијумски циљни материјал, постали све строжи. За процес од 0,35 μм потребан је циљни материјал чистоће од 99,995%, а за процес од 0,18 μм неопходан је циљни материјал чистоће од 99,999% или чак ултра{13}}високе чистоће.
Садржај нечистоћа: Нечистоће у чврстој материји циљног материјала и кисеоник и водена пара адсорбовани у унутрашњим порама су главни извори контаминације за депоноване филмове. Различите примене имају изузетно строга ограничења у вези са специфичним садржајем нечистоћа. На пример, чисти алуминијум и легуре алуминијума које се користе у индустрији полупроводника имају изузетно строге посебне захтеве за садржај алкалних метала и садржај радиоактивних елемената.
Густина: Висока густина је кључна за смањење унутрашњих пора у циљном материјалу и побољшање перформанси распршених филмова. Густина циљног материјала не утиче само на брзину распршивања, већ такође значајно утиче на електрична својства (као што је отпорност) и оптичка својства филмова. Уопштено говорећи, што је већа густина, то су боље перформансе филма. У исто време, висока густина и висока чврстоћа такође могу омогућити циљном материјалу да боље издржи топлотни стрес током процеса прскања, смањујући ризик од пуцања. Стога је густина кључни индикатор учинка за мерење квалитета циљаног материјала.
Величина зрна и дистрибуција: Величина зрна циљаног материјала креће се од микрометара до милиметара. Ефикасност распршивања финих-мети је боља од оне са крупним{2}}метама. Циљани материјали са уједначеном величином зрна имају већу вероватноћу да произведу равномерно дебеле нанесене филмове, што је кључна гаранција перформанси за велике-процесе облагања равног екрана.
Примене титанијумских мета материјала
Индустрија полупроводника: Титанијумски циљни материјали се могу користити за производњу електронских компоненти, као што су фотодиоде, фототранзистори, фото-пријемници и предајници, итд.
Оптоелектронско поље: Титанијумски циљни материјали се могу користити за производњу оптоелектронских уређаја, као што су ЛЕД диоде и соларне ћелије, итд.
Поље магнетних материјала: Титанијумски циљни материјали се могу користити за производњу чврстих дискова и магнетних картица итд.
Друге области високе{0}}технолошке области: Титанијумски циљни материјали се такође широко користе у високо-легурама на високим температурама, проводним материјалима, хемијским катализаторима и медицинској опреми итд.
Ова поља не захтевају само материјале високе чврстоће и отпорности на корозију, већ и стабилне хемијске особине и биокомпатибилност. Титанијумски циљни материјали прецизно испуњавају ове захтеве и постали су важан материјал у овим областима.
Баоји Иибаите Нев Материалс Тецхнологи Цо., Лтд- добављач титанијумских мета у Баојију, Кина